影响mosfet阈值电压的因素是栅氧化层厚度氧化层固定电荷衬底掺杂浓度。
MOSFET阈值电压是指在MOSFET导通的过程中,栅极和源极之间的电压达到一定值时,MOSFET开始导通的电压。高阶效应是指在微米级别的MOSFET器件中,由于电场、梯度等因素的影响,导致器件的电性能受到影响的现象。
高阶效应对MOSFET阈值电压的影响主要表现在两个方面:
1.通道长度调制效应:通道长度调制效应是指在MOSFET通道长度较小的情况下,由于电场效应的影响,通道中的电子浓度会受到影响,从而导致阈值电压的变化。当通道长度减小时,电子浓度的变化会导致阈值电压的变化。
2.反型耗尽效应:反型耗尽效应是指在MOSFET器件中,由于电场效应的影响,导致P型基底区域中的电子被抽出,形成一个N型反型耗尽区,从而影响阈值电压的变化。当反型耗尽区的形成,会导致阈值电压的变化。
影响cmos阈值电压的因素:
1、栅氧化层厚度TOX。
2、衬底费米势。
3、金属半导体功函数差。
4、耗尽区电离杂质电荷面密度。
耗尽区电离杂质电荷面密度近似地与衬底杂质浓度N的平方根成正比。
5、栅氧化层中的电荷面密度Qox。