第1个回答 2023-05-08
磁控溅射过程中,靶材表面的抛光并非绝对必要,但通常推荐进行抛光。抛光的靶材表面具有以下优势:
1. 更均匀的溅射:抛光后的靶材表面更加平整,有助于实现更均匀的溅射。这将有助于生成具有更均匀厚度和表面性能的薄膜。
2. 减少缺陷:抛光可以减少靶材表面的缺陷(如划痕、凹陷等),从而降低溅射过程中颗粒和杂质的生成。这有助于获得质量更高的薄膜。
3. 更高的溅射速率:抛光表面减少了表面散射,从而提高了溅射速率。这可以提高生产效率并降低成本。
4. 更长的靶材使用寿命:抛光表面减少了靶材表面的缺陷,有助于降低腐蚀和磨损,从而延长靶材的使用寿命。