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光刻胶arf和krf
格科微
arf光刻
机是几nm的
答:
157nm。光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻胶
、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);...
光刻胶
龙头企业
答:
三、南大光电 核心逻辑:
ArF光刻胶
认证通过,国产材料持续推进。南大光电主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施 四、扬帆新材 ...
中国芯片目前处于什么水平
答:
特别是在光刻机领域,上海微电子已能生产90纳米级别的设备。然而,高端的
KrF和
ArF
光刻胶
几乎全部依赖进口,ArF光刻胶的国产化几乎为零。这意味着,在追求高度国产化的芯片生产中,90纳米技术水平成为一个关键的分界点。此外,芯片设计所必需的EDA(电子设计自动化)软件及其他电子化学气体材料,国产化率...
中国芯片水平如何?
答:
其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米。高端的
KrF和
ArF
光刻胶
更是几乎依赖进口,其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此,我国要生产高度国产化的芯片,目前90纳米是一个分界点。这其中还不包含芯片设计使用的EDA设计软件和其它的电子化学气体材料。EDA软件被誉为“芯片设计上的明珠”,国产率不到2%。国产...
南大光电有利好吗
答:
光刻胶
方面:在供给端中,会受到晶圆厂扩产、疫情等的影响,光刻胶出现了供不应求的局面。在需求端中,国内非常多家国内晶圆厂也在努力抓产能,国内市场对于光刻胶的需求量要远超供给量,且差距保持连年增长,特别是在
ArF
、高端
KrF
等半导体光刻胶这一层面,光刻胶作为"卡脖子"产品对国产替代的需求...
光刻
的工序
答:
影响
光刻胶
均匀性的参数:旋转加速度,加速越快越均匀;与旋转加速的时间点有关。一般旋涂光刻胶的厚度与曝光的光源波长有关(因为不同级别的曝光波长对应不同的光刻胶种类和分辨率):I-line最厚,约0.7~3μm;
KrF
的厚度约0.4~0.9μm;
ArF
的厚度约0.2~0.5μm。软烘4、软烘(Soft Baking)方法:真空热板,85~120...
3duv是什么
答:
3duv就是深紫外光,主要是指波长小于i-line365nm的紫外光,一般工业上有193
arf和
248nm
krf
的的激光。用的都是化学增幅型的
光刻胶
。d(uv) = (uv)'dx=(uv'+u'v)dx=vdu + udv这是因为uv'dx=udv u'vdx=vdu。d(uv) = udv + vdu∫d(uv) = ∫udv + ∫vduuv=∫udv + ∫vdu∫udv =...
什么是
光刻胶
以及光刻胶的种类
答:
光刻胶
是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用: a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中; b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。2、光刻胶的物理特性参数: a、...
什么是
光刻胶
以及光刻胶的种类
答:
光刻胶
是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用: a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中; b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。2、光刻胶的物理特性参数: a、...
半导体材料龙头股票有哪些
答:
半导体龙头企业如下:1、硅片:中环股份、上海硅产业(上海新阳占股7%)8寸均已量产,12寸上硅2019年底量产,中环2020年第一季度量产。2、
光刻胶
及试剂:北京科华、晶瑞股份、南大光电、上海新阳;光刻胶技术路线:紫外宽谱300-450nm→G线436nm→i线365nm→
KrF
248nm→
ArF
193nm→EUV13.5nm,北京...
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