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光刻胶arf和krf
试述
光刻
加工的主要阶段
答:
涂胶,曝光,显影。涂胶又分HMDS,Coat,Softbake三步,显影分PEB,Develop,Hardbake三步。连续喷雾显影/自动旋转显影。一个或多个喷嘴喷洒显影液在硅片表面,同时硅片低速旋转(100~500rpm)。喷嘴喷雾模式和硅片旋转速度是实现硅片间溶解率和均匀性的可重复性的关键调节参数。
光刻胶
| 三星SDI欲打破日本垄断!已着手开发半导体光刻胶
答:
三星SDI开发半导体光刻胶的举措将对韩国半导体材料国产化产生重大的影响。作为半导体工艺中必不可少的物质,光刻胶一直被日本厂商所垄断。光刻胶也是2019年日本政府对韩国出口管制时,被指定为出口限制清单之一。当时,日本仅限制出口尖端工艺用材料—极紫外线(EUV)光刻胶。但通用的
ArF
、
KrF光刻胶
却被日本...
国产芯片水平只能实现90纳米吗?
答:
国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看,光刻机、蚀刻机、晶圆、
光刻胶
等设备和材料占比很大。其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米。高端的
KrF和
ArF光刻胶更是几乎依赖进口,其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此,我国要生产高度国产化的芯片,目前90纳米是一个分界点。这其中还不包含芯片设计...
光刻
化学01-
光刻胶
,resist
答:
有些地区国家也叫它“
光阻
”哦
光刻胶
,resist 都是它 光刻胶通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)进行曝光。根据使用的不同波长的曝光光源,如
KrF
(248nm),
ArF
(193nm)和EUV(13.5nm),相应的光刻胶组分也会有一定的变化。如248nm光刻胶常用聚对羟基苯乙烯及其衍生物为光刻胶...
arf光刻胶
是啥意思
答:
ArF光刻胶
的是由成膜树脂、光致产酸剂(简称“光酸”,光引发剂的一种)、溶剂、碱、流平剂以及其他功能助剂。其中,核心原材料是树脂,而树脂是由单体通过高分子聚合反应并经过一定的后处理而得到的。ArF光刻胶配制过程包括原材料准备和预处理(树脂合成、提纯、降金杂,以及光酸合成和预处理)、...
上海新阳拟募资15亿元投向高端
光刻胶
等项目 部分核心技术已获突破_百度...
答:
上海新阳透露, 经过长期投入,目前部分核心技术已取得突破,
ArF
干法
光刻胶和 KrF
厚膜光刻胶均已形成实验室成果,样品关键参数指标已达到竞品水平,产品已经过数千次试验,得到令人满意的试验结果。目前实验室研发阶段已完成,正在进行中试及后续验证推进。联合开发化学机械抛光液 本次募资的另一个投向是集成...
南大光电脑配置基础知识:系统安装、硬件配置与服务维护
答:
南大光电的7nm
arf光刻胶
量产了吗?南大光电(300346)3月14日在互动平台表示,
ArF光刻胶
有少量供货,尚未规模量产。光刻胶扩产计划需根据产品订单情况确定。ArF光刻胶是先进集成电路芯片制造的关键材料,在193nm光源下有较高的透明性和抗刻蚀性等,可以广泛应用于各种高端IC芯片的生产制造。南大光电光刻胶...
一家中企买下三台
光刻
机,它是哪家呢?
答:
特别是对于一些高科技产品,
KrF和
ArF两种照片寄存器都适用。这两个光刻市场都掌握在美日两国,特别是日本企业手中。我国在光刻水平上停留在PCB低端光刻阶段。当然,低端光刻市场在我国占94.4%,但在KrF和ArF等高端光刻中,市长/市场份额仅为1.6%。因此,ArF
光刻胶
已经成为国家02专业领域的重点攻略项目。...
为什么说日本对韩国出口原料的限制会直接影响到了三星等半导体厂商的...
答:
未来一段时间内半导体
光刻胶
领域仍将实现增长:2016-2018 年全球半导体集成电路销售额复合增长率达到 19%,5G 技术的发展仍将催动半导体芯片更新换代,刺激 I 线光刻胶市场发展;精细化需求趋势将促进分辨率更高的光刻胶的应用,进而推动
KrF
光刻胶市场的增长。另外根据摩尔定律,每隔两年电子设备的性能...
半导体概念之龙头标的深度梳理
答:
{2}南大光电:光刻胶国产替代龙头 半导体光刻胶目前国内自给率极低,供给端基本被日美企业垄断,行业前五市占率达87%。其中g线/i线光刻胶自给率约为20%,
KrF光刻胶
自给率不足5%,而
ArF光刻胶
完全依赖进口,对我国芯片制造形成“卡脖子”风险。公司继去年12月通过50nm闪存平台认证通过后,近日又...
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