原因：旋涂光刻胶的厚度与曝光的光源波长有关（不同级别的曝光波长对应不同的光刻胶种类和分辨率）：I-line最厚，约0.7～3μm；KrF的厚度约0.4～0.9μm；ArF的厚度约0.2～0.5μm。
黄光照明，避免了光辐照后可能产生酸或产生交联。
决定光刻胶涂胶厚度的关键参数：光刻胶的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻胶的厚度越薄；旋转速度，速度越快，厚度越薄。
扩展资料
1、准分子光刻技术作为当前主流的光刻技术，主要包括：特征尺寸为0.1μm的248nmKrF准分子激光技术；特征尺寸为90nm的193nmArF准分子激光技术；特征尺寸为65nm的193nmArF浸没式技术（Immersion，193i）。
2、光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
参考资料来源：百度百科—光刻
参考资料来源：百度百科—光刻胶
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第1个回答 推荐于2017-09-16
这是有历史原因的。
早期的光刻胶一般对黄光不敏感，而对其他波长的光比较敏感，因此clean room里面的照明一般都是黄光照明，避免了光辐照后可能产生酸或产生交联（和曝光的效果一样，只是剂量少一点）；现在很多光刻胶的光学性质发生了很大改变，不一定只是黄光才不敏感。但是之前一直用黄光照明，那么就一直沿用下来了。
另一个原因是，光刻过程中可能需要很多光刻胶，万一用到一种早期光刻胶呢？所以还是用黄光比较保险。本回答被提问者和网友采纳
早期的光刻胶一般对黄光不敏感，而对其他波长的光比较敏感，因此clean room里面的照明一般都是黄光照明，避免了光辐照后可能产生酸或产生交联（和曝光的效果一样，只是剂量少一点）；现在很多光刻胶的光学性质发生了很大改变，不一定只是黄光才不敏感。但是之前一直用黄光照明，那么就一直沿用下来了。
另一个原因是，光刻过程中可能需要很多光刻胶，万一用到一种早期光刻胶呢？所以还是用黄光比较保险。本回答被提问者和网友采纳
第2个回答 2014-12-21
黄光源的波长不会破坏光刻胶的特性.
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