电子元件生产工艺流程图

如题所述

一、IC生产工艺流程图
IC生产工艺流程图涵盖六个主要部分:单晶硅片制造、IC设计、光罩制作、IC制造、IC测试和封装。
1. 单晶硅片制造:涉及拉晶、切割、研磨、抛光和清洗等步骤。
2. IC设计:主要包括电路设计及版图设计。
3. 光罩制作:将IC设计版图转移到玻璃板上。
4. IC制造:包括蚀刻、氧化、扩散/离子植入、化学气相沉积薄膜和金属溅镀等步骤,通常由晶圆代工厂完成。
5. IC测试:在产品交付客户前,为保证IC质量,需进行功能测试,分为晶圆点测和终测。
6. IC封装:包括晶圆切割、固晶、打线、塑封、切筋和成形、打码、终测、分选和编带等步骤。
二、贴片电阻生产工艺流程图
贴片电阻生产工艺流程图包含三个基本操作步骤:涂布、贴装、焊接。
1. 涂布:使用印刷机或点膏机将焊膏或固化胶涂布到PCB板上。
2. 贴装:利用贴片机将电阻等器件贴装到PCB板上。
3. 回流焊:通过回流焊炉加热PCB板,使焊膏熔化,实现器件与PCB板的焊接。
三、电容生产工艺流程图
电容生产工艺流程图包括以下步骤:
1. 原材料:陶瓷粉的配制,这是影响MLCC性能的关键步骤。
2. 球磨:通过球磨机将瓷粉配料颗粒研磨至微米级别。
3. 配料:各种配料按一定比例混合。
4. 和浆:加入添加剂将混合材料调成糊状。
5. 流延:将糊状浆体均匀涂布在薄膜上。
6. 印刷电极:将电极材料以一定规则印刷到流延后的糊状浆体上。
7. 叠层:将印刷好电极的流延浆体块根据容值不同叠加,形成电容坯体版。
8. 层压:使多层坯体版结合紧密。
9. 切割:将坯体版切割成单体坯体。
10. 排胶:高温下排除粘合剂。
11. 焙烧:高温烧结陶瓷粉形成陶瓷颗粒。
12. 倒角:磨掉长方体棱角,露出电极形成倒角陶瓷颗粒。
13. 封端:用铜或银材料封端,形成铜(或银)电极,链接粘合电极版。
14. 烧端:高温烧结电极,形成陶瓷电容初体。
15. 镀镍:电极端镀上一层镍层,防止电极与锡层相互渗透。
16. 镀锡:在镍层上镀锡,形成陶瓷电容成体。
17. 测试:测试耐电压、电容量、DF值损耗、漏电流Ir和绝缘电阻Ri等指标。
扩展材料:
1. 设计流程图需清晰理解业务逻辑,深入分析活动、事件的流程设计。
2. 流程图中的进程用方框符号表示,各环节按时间顺序排列,并用箭头线连接。
3. 判定或分岔点用菱形符号表示,内部写明问题及答案,决定后续流程。
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