ASML光刻机,世界半导体商家争夺的“香饽饽”

如题所述

1. ASML新一代EUV光刻机的核心三大件已到货,包括物镜系统高NA机械投影光学器件、光源系统镜头以及新款晶圆载物工作台。目前尚不清楚这些部件的供应商是哪个国家的。
2. ASML预计将在2023年发布High-NA EUV光刻机的原型机,然后在2024年实现量产,2025年大批量出货,此后High-NA EUV光刻机将成为ASML的新旗舰主力产品。
3. 在未来5到10年内,High-NA EUV光刻机有望推动世界芯片工艺达到新的高度。虽然我们作为中国人对此只能感到羡慕,但不能责怪荷兰制造商ASML,而是需要努力追赶。
4. ASML正在开发下一代High-NA EUV光刻机,型号为EXE:5000。该光刻机采用高数值孔径系统,孔径数达到0.55,是生产2nm及以下芯片的关键设备。这台光刻机已被英特尔、台积电、三星预订。
5. 荷兰ASML公司生产的光刻机几乎垄断了全球高端市场,各大半导体制造厂商,包括台积电、三星、英特尔等,都会争夺其稀有的光刻机购买名额。
6. 据英特尔内部透露,他们也将拥有ASML下一代High-NA EUV光刻机,预计2025年开始用于制造芯片。
7. ASML作为全球最大的光刻机制造商,其实离不开英特尔等美企成立的EUV联盟的支持。EUV联盟专门研制EUV极紫外光源技术,ASML被选中支持其完成EUV光刻机的量产。
8. 尽管ASML希望向大陆市场出货EUV光刻机,但由于美国的干涉,至今未能获得自由出货的许可。然而,ASML已经向大陆交付了23台光刻机,显示出其对大陆市场的重视。
9. 由于EUV光刻机不能出货,ASML向大陆交付的光刻机主要是DUV光刻机及其它型号设备。
10. 人们曾希望ASML旧款EUV光刻机能在新款光刻机量产后被自由出货,但这种想法目前看来不现实。因此,我们需要自己努力,掌握核心技术,走适合自己的发展道路。
11. 最后,EUV光刻机和DUV光刻机是两种不同的光刻机。EUV光刻机使用极紫外线,而DUV光刻机使用深紫外线。
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