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溅射靶材是干什么用的
靶材为什么
会老化
答:
高能电子流轰击靶面,99%的能量都转化为热量 会造成金属膨胀 蒸发 从而降低了
靶材的
强度
我买了一块铝靶表面不是很均匀,影响使用吗?是不是因为没有抛光才这样...
答:
磁控溅射过程中,等离子体的离子撞击靶材,溅射出
靶材的
原子、原子团、离子、电子、光子等,原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。溅射发生在靶材表面,靶材表面物理状态不均匀也没有关系,
溅射的
时候会先溅射凸起,溅射时间长了,靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。溅射过程不影响靶材合金...
射频
溅射的
介绍
答:
射频
溅射是
利用射频放电等离子体中的正离子轰击
靶材
、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。射频溅射: 用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统, 由于常用的交流电源的频率在射频段( 5~30MHz ) 所以这种溅射方法称为射频溅射。 射频溅射射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜...
磁控
溅射
一定要求
靶材
表面抛光吗
答:
磁控溅射过程中,等离子体的离子撞击靶材,溅射出
靶材的
原子、原子团、离子、电子、光子等,原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。溅射发生在靶材表面,靶材表面物理状态不均匀也没有关系,
溅射的
时候会先溅射凸起,溅射时间长了,靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。溅射过程不影响靶材合金...
磁控
溅射靶材是
铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片...
答:
氧流量,控制
靶
中毒。沉积膜时的时间,基材的清洁问题,
在
溅射靶材
时,上面老是有一些黑色的氧化物,清洁之后还是影响溅射,有没...
答:
溅射成膜的生产工艺中,由于靶材表面洁净度不高,通常会在
靶材溅射
表面累积一些从几微米到几毫米大小的黑色氧化物,这些异物被认为是In或Si的不完全氧化物,一般称之为结瘤。一般
溅射靶材
通过采用砂纸对靶材表面进行打磨,并且顺应靶材的跑道方向,可有效去除靶材表面的氧化物和杂质,同时可以避免一些灰尘落...
为什么
ito
靶材
产生的particle比较多
答:
ITO(氧化铟锡)靶材在
溅射
过程中可能会产生较多的粒子(particles),这通常可以归因于以下几个原因:1. **
靶材的
质量和纯度**:如果ITO靶材中存在杂质或者非均匀的成分分布,那么在溅射过程中这些区域可能会比周围的区域更易于被击出粒子。2. **溅射过程中的电压和电流条件**:溅射过程中的电压和电流...
漳州市合纵镀膜材料科技有限公司
靶材的
主要性能要求
答:
杂质含量的控制同样重要,
靶材
中固态杂质和气孔中的氧气、水气会对沉积薄膜造成污染。半导体工业
使用的
纯铝及铝合金靶材,对其碱金属和放射性元素的含量有特别严格的规定,以保证产品质量。靶材的密度是影响
溅射
效率和薄膜性能的重要指标。为了提高薄膜的质量,通常需要靶材具有较高的密度。密度越高,溅射速率...
磁控
溅射
镀膜
靶材
怎么接线的
答:
在磁控
溅射
镀膜过程中,
靶材
需要通过一个适当的接线方式连接到电源上。下面是一般步骤和注意事项:1. 靶材安装:首先将靶材安装到磁控溅射设备上的靶架或支撑结构上。这个结构通常由导电材料(例如不锈钢)制成,以确保良好的电气连接。2. 接线方法:将一个接地的导线连接到系统合适位置的接地端以保持靶材...
陶瓷
靶材
在磁控
溅射
时会出现哪些问题?
答:
为了防止陶瓷
靶材的
开裂和背靶脱靶,可以采取以下措施:1. 降低
溅射
功率:可以通过降低溅射功率来减缓靶材的受热速率,从而减少靶材的裂纹和断裂。2. 使用较小的靶材:使用较小的陶瓷靶材可以降低靶材之间的应力,减少靶材开裂的可能性。3. 选择合适的溅射气体:选择合适的气体可以减少靶材的热应力,并且可以...
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