99问答网
所有问题
当前搜索:
溅射靶材结构
磁控
溅射
中的
靶材
分为
金属合金靶和陶瓷靶
,那像一些金属氧化物的靶材为...
答:
磁控溅射中的靶材确实分为金属合金靶和陶瓷靶
。金属合金靶主要由纯金属或金属间的合金组成,而陶瓷靶主要由金属氧化物、氮化物、硼化物等无机非金属化合物组成。尽管金属氧化物的靶材含有金属成分,但它们被称为陶瓷靶的原因在于其结构和性质。陶瓷是一种无机非金属材料,通常具有以下特点:1. 高熔点和高...
溅射靶材
的介绍
答:
溅射靶材有
金属,合金,陶瓷,硼化物等
。
溅射和
溅射靶材
的区别和用途
答:
靶材是溅射过程中的关键材料,其材料种类、纯度、结构等参数决定了最终薄膜的性质
。例如,如果需要制备金属薄膜,可以使用对应的金属靶材,如铝靶、铜靶、钛靶等;如果需要制备氧化物薄膜,可以使用对应的氧化物靶材,如氧化铝靶、氧化铁靶、氧化锌靶等。总的来说,溅射是一种技术或过程,靶材是这个过程中...
制造高端芯片需要的金属
靶材
主要特点是?
答:
2. 优良的均匀性:** 为了确保芯片的一致性和可靠性,金属
靶材
需要具有良好的成分和微观
结构
均匀性。这包括全局(整个靶材)和局部(微观区域)两个层面。3. 适合的物理和化学性质:** 靶材的物理和化学性质,如熔点、蒸气压、化学稳定性、电导率等,需要适合特定的沉积技术(如磁控
溅射
、电子束蒸发等...
科研实验中
靶材
用
溅射
沉积的方式有什么优缺点?
答:
3. 膜层结构可控:通过调节溅射参数(如功率、压力、气氛、基底温度等
),可以控制薄膜的组成、结晶状态和微观结构。4. 基底适应性强:适用于各种类型的基底,包括塑料、玻璃、硅片等,同时对基底的温度要求不高,使得易受热影响的材料也可以沉积。5. 沉积率可调:通过改变溅射功率可以灵活地调节沉积速率...
磁控
溅射
时,
靶材
所形成的薄膜与基板的结合是什么情况?
答:
溅射
方法制备的薄膜组织可依沉积条件不同而呈现四种不同的组织形态。除了衬底温度因素以外,溅射气压对薄膜
结构
也有着显著的影响。形态越靠后,粘结力越强。结合力一般与粘结力有关,粘结力强多为范德华力的作用。薄膜附着力指的是薄膜对衬底的附着能力的大小,即薄膜从其衬底上脱离所需要的外力和能量的...
高端
溅射靶材
是什么意思
答:
高端
溅射靶材
是指一种高纯度、高可靠性、高成分均匀性、高表面平整度的材料,多用于高科技领域的薄膜制备工艺中。现代薄膜材料制备技术的发展,为高端溅射靶材的制备提供了良好的前景和市场。高端溅射靶材的制备过程一般采用真空下的热压法或者气相沉积法,生产工艺呈自动化和连续化。目前,高纯度金属和合金...
磁控
溅射
镀膜
靶材
怎么接线的
答:
1.
靶材
安装:首先将靶材安装到磁控
溅射
设备上的靶架或支撑
结构
上。这个结构通常由导电材料(例如不锈钢)制成,以确保良好的电气连接。2. 接线方法:将一个接地的导线连接到系统合适位置的接地端以保持靶材与系统接地。然后将正负极连接到设备的电源上。通常情况下,靶材为负极,而气氛中的氩离子为正极...
溅射
技术作为薄膜材料制备的主流工艺,都应用在哪些领域?
答:
在
溅射靶材
应用领域中,半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观
结构
等方面都设定了极其苛刻的标准,需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品,因此,半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的,价格也最为昂贵;相较于半导体芯片,平面显示器、太阳能电池对于溅射靶材的纯度和技术要求...
离子镀
溅射靶材
有什么优缺点吗?
答:
3. 微观
结构
控制:离子镀可以更精确地控制薄膜的微观结构,如晶体取向、晶粒大小和膜的应力状态。4. 清洁基片表面:
溅射
前的离子预处理可以去除基片表面的污染物,提高膜层的质量。5. 沉积速率更高:与传统的溅射相比,离子镀可以实现更快的沉积速率,提高生产效率。6. 薄膜性能改善:可以通过离子镀改善...
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
涓嬩竴椤
其他人还搜
金属溅射靶材
中国10大溅射靶材公司
金属溅射靶材有什么用途
靶材表面为什么溅射一圈呢
溅射靶材对薄膜组分的影响
溅射钼靶材的毒性有多强
江丰电子溅射靶材
MTD金属溅射靶材是什么
溅射靶材含金量高吗