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溅射靶材对薄膜组分的影响
磁控
溅射靶材对
磁控溅射
有什么影响
答:
成份:靶材的成分直接决定了沉积膜的材料组成,
从而影响其性能、特性和应用领域。纯度:靶材的纯度对薄膜质量、性能和可靠性具有重要影响
。高纯度的靶材可以减少杂质引入,保证优良的薄膜性能。密度和表面处理:靶材密度和表面质量可能直接影响溅射速率、膜厚均匀性和膜密度。高密度和光滑无缺陷的靶材将有助于...
高纯
溅射靶材
是什么
答:
总之,高纯溅射靶材是溅射镀膜技术的关键材料,
其纯度、成分和性能直接影响薄膜的质量和性能
。随着科技的不断发展,高纯溅射靶材在电子、光学、半导体等领域的应用将越来越广泛。
靶材
纯度对镀膜生产
有什么影响
?
答:
一部分出现团聚时说明其它位置铝含量偏少,
影响SiAl靶的导热和导电性,从而使溅射速率出现不一致,膜层均匀性变差,靶材出现开裂,加剧靶材放电的现象
,也会降低成膜质量.而靶材成分的偏析会影响溅射速率(膜层均匀性)和膜层成分.因此,除控制靶材纯度外,合金靶中材质的分布也是至关重要的.对于导热性较差的靶材...
在磁控
溅射
镀膜过程中,
薄膜
沉积速率由哪些因素决定
答:
1. 溅射功率:溅射功率是指施加到靶材上的功率,
它直接影响薄膜的沉积速率。增加溅射功率会增加靶材表面的溅射粒子数,从而增加沉积速率
。2. 靶材性质:靶材的性质对沉积速率起着重要作用。靶材的组成、形状和尺寸等特性会影响溅射过程中溅射粒子的产生和传输,进而影响沉积速率。3. 气体氛围:在磁控溅射过...
磁控
溅射
镀膜中各种动量之间的关系(做的是消影TP)
答:
1. 靶材功率与溅射速度:增加靶材功率通常会提高溅射速度
,即更多的靶材原子或分子被剥离并沉积到基底上。这可能导致膜厚增加。2. 气体种类和比例与膜成分:使用不同的气体种类和比例(如Ar、O2、Ar/O2)可以调节镀膜过程中的化学反应和组分。氧气(O2)的含量可以影响氧化物的形成,如在ITO镀膜中。
磁控
溅射
时,
靶材
所形成的
薄膜
与基板的结合是什么情况?
答:
溅射
方法制备的薄膜组织可依沉积条件不同而呈现四种不同的组织形态。除了衬底温度因素以外,溅射气压
对薄膜
结构也有着显著
的影响
。形态越靠后,粘结力越强。结合力一般与粘结力有关,粘结力强多为范德华力的作用。薄膜附着力指的是薄膜对衬底的附着能力的大小,即薄膜从其衬底上脱离所需要的外力和能量的...
科研实验中
靶材
用
溅射
沉积的方式
有什么
优缺点?
答:
3.
靶材
消耗:靶材在使用过程中会逐渐被消耗,需要定期更换,这可能导致材料成本上升。4. 基片损伤:
溅射
过程中可能会产生高能粒子,这些粒子有时候会损伤基底或改变
薄膜的
性质。5. 制程复杂性:需要精确控制多个参数以保证膜层质量,对工艺人员的要求较高。6. 均匀性问题:尽管溅射能够得到相对均匀的膜层...
什么是
溅射
法
答:
在沉积多元合金或化合物薄膜时,还可以通过调节交变脉冲电压的占空比来改变
薄膜的组分
。非平衡磁控溅射 Window等人在1985年首先引入了非平衡磁控溅射的概念,并给出了非平衡磁控溅射平面靶的原理性设计。对于一个磁控
溅射靶
,其外环磁场强度与中部磁极的磁场强度相等或接近,称为“平衡磁控溅射靶”;如果某...
合金
靶材溅射
原理
答:
溅射
类镀膜的基本原理可以这样解释:通过电子或高能激光对
靶材
进行冲击,促使靶材表面的
组分
以原子团或离子形式被释放出来,这些物质随后在基片表面沉积,经过一系列成膜过程,最终形成一层
薄膜
。溅射镀膜相较于蒸发镀膜的一个显著区别在于溅射速率的控制更为关键。以激光溅射镀膜(PLD)为例,这种镀膜方法在...
pvd镀膜中
靶材
被轰击出来的原子或者分子有没有收到电场,磁场的力学作 ...
答:
这个过程中,
靶材
被高能离子轰击,使得靶材表面的原子或分子被解离或
溅射
出来,然后通过惯性和热扩散等机制在基底表面沉积形成
薄膜
。在这个过程中,原子或分子的轨迹主要受到它们的能量和方向分布
的影响
。在通常情况下,这些轰击出来的原子或分子没有受到直接的电场或磁场力学作用。电场和磁场在磁控溅射中的主要...
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