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半导体制造用超高纯金属溅射靶材
半导体用超高纯金属溅射靶材
和高纯金属溅射靶材有区别吗
答:
超高纯金属溅射靶材
是指金属材料的纯度达到9N(99.9999999%)以上,也就是纯度高于99.9999999%。超高纯金属溅射靶材的制备需要采用特殊的制备工艺和设备,以保证材料的高纯度,从而可以在制备
半导体
器件和其他高精度电子元件时提供高品质的金属薄膜。相比之下,高纯金属溅射靶材的纯度通常在6N(99.9999%)以...
制造
高端芯片需要的
金属靶材
主要特点是?
答:
1.
高纯度
:** 芯片制程对材料纯度的要求非常高,因为任何杂质都可能影响芯片的性能。因此,用于
制造
高端芯片的
金属靶材
需要具有极高的纯度,一般要求99.999%(5N)以上,甚至高达99.9999%(6N)或更高。2. 优良的均匀性:** 为了确保芯片的一致性和可靠性,金属靶材需要具有良好的成分和微观结构均匀...
姚力军贡献
答:
姚力军博士是一位专注于
超高纯金属
材料研究的杰出专家,他在“超大规模集成电路
制造用溅射靶材
技术”领域具有独特的造诣,凭借深厚的理论知识和丰富的实践经验,他在中国的
半导体
材料研发领域独树一帜。回国发展后,他已经取得了显著的科研成果,截至2009年,他已拥有4项发明专利和4项实用新型专利授权,同时提...
生产高纯金属溅射靶材
对身体有害吗
答:
生产高纯金属溅射靶材
涉及到一些化学和物理过程,可能会产生粉尘、气体、噪音等有害物质。这些物质如果没有得到适当的控制和防护,可能对工人的身体健康造成影响。以下是一些可能的危害:1. 金属粉尘:在生产过程中,金属粉尘可能会产生,如铝、铜、钨、钛等金属。如果吸入过多金属粉尘,可能会引起呼吸系统...
2023年中国
溅射靶材
行业研究报告
答:
金属与合金
靶材
是主要类别,其中核心技术如
超高纯金属
的控制、晶粒晶向与大小的精准调控,以及靶材纯化的工艺,如湿法提纯(如离子交换和溶剂萃取)、火法精炼(氯化精馏)和电解精炼,都是行业发展的关键技术点。
溅射
工艺方面,粉末冶金(如热压法)和熔融铸造(如真空感应熔炼)并行发展。以铝靶材为例,其...
kfmi是什么公司
答:
KFMI”),创立于2005年,于2017年上市,是专业从事超大规模集成电路
制造用超高纯金属
材料及
溅射靶材
研发、生产和销售的高新技术企业。该公司研发的超大规模集成电路制造用溅射靶材填补了我国的空白,结束了产品依赖美、日进口的历史,产品已销售到国内外知名的
半导体
芯片、平板显示及薄膜太阳能电池制造企业。
溅射靶材
的主要应用
答:
溅射靶材
主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 分类根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶根据成份可分为
金属靶材
、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为
半导
...
磁控
溅射靶材
现在在向什么方向发展?
答:
1. 高性能材料:随着科学技术的进步,对高性能、高质量的薄膜材料的需求不断增加。因此,研究和开发具有更
高纯度
、更稳定结构和更优异性能的
溅射靶材
成为了一个重要趋势。2. 新型透明导电材料:在显示器、太阳能电池和智能窗等领域,透明导电薄膜具有广泛的应用。因此,开发新型透明导电材料,如AZO(氧化...
进口
靶材
和国产靶材的区别
答:
技术水平不同、产品质量不同、纯金属原料不同、大尺寸水平国产距进口差距较大。上游
高纯金属
原料被日本和美国垄断。高纯
溅射靶材
对金属材料纯度的要求非常高,虽然国内的铜、铝、钛等金属的冶炼产能在全球占据主要市场份额,但是国内金属的提纯技术有限,无法达到高纯溅射靶材的
生产
要求国外企业经过几十年的...
科研实验中为什么有些
靶材
要绑定背靶呢?
答:
所以靶材又称为“
溅射靶材
”,他的工作原理就是利用离子源产生的离子,在真空中聚集并提速,用形成的高速离子束流来轰击靶材表面,发生动能交换,让靶材表面的原子沉积在基底。一块靶材由“靶坯”和“背板”组成,靶坯是由
高纯金属制作
而来,是高速离子束流轰击的目标;背板通过焊接工艺和靶坯连接,起到固定靶坯的作用,...
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