局部电位和动作电位具有以下区别：
1、概念不同：
局部电位：细胞受到阈下刺激时，细胞膜两侧产生的微弱电变化（较小的膜去极化或超极化反应）。或者说是细胞受刺激后去极化未达到阈电位的电位变化。
动作电位：可兴奋组织或细胞受到阈刺激或阈上刺激时，在静息电位基础上发生的快速、可逆转、可传播的细胞膜两侧的电变化。动作电位的主要成份是峰电位。
2、刺激的原因不同：
动作电位是阈下刺激引起；而局部电位是阈刺激或阈上刺激引起。
3、原理不同：
动作电位：Na+少量内流；局部电位：Na+大量内流。
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1、动作电位形成过程：
动作电位上升支：大于或等于阈刺激→细胞部分去极化→钠离子少量内流→去极化至阈电位水平→钠离子内流与去极化形成正反馈（钠离子爆发性内流）→基本达到钠离子平衡电位（膜内为正膜外为负，因有少量钾离子外流导致最大值只是几乎接近钠离子平衡电位）。
动作电位下降支：膜去极化达一定电位水平→钠离子内流停止、钾离子迅速外流。
2、局部电位的形成机制：
阈下刺激使膜通道部分开放，产生少量去极化或超极化，故局部电位可以是去极化电位，也可以是超极化电位。局部电位在不同细胞上由不同离子流动形成，而且离子是顺着浓度差流动，不消耗能量。