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金属溅射靶材有什么用途
真空镀膜时
溅射
出来的
靶材
原子离化后带何种电性
答:
溅射
出来的
靶材
,并不一定是单个离子状态,应该是团状为主的。所以在经过电离区时,单个原子如果被电离的话肯定是正离子,团状的话也有可能吸收电子而带负电荷的。
钛靶
用
强磁溅射与弱磁
溅射有什么
区别?
答:
2. 薄膜质量:强磁
溅射
通常可以产生更高质量的薄膜。较强的磁场可以更好地束缚二次电子,从而降低阴极表面的电子逸出,减少辉光放电中的杂质。这有助于提高薄膜的结晶性、密度和附着力。而在弱磁溅射条件下,薄膜质量可能较差。3.
靶材
利用率:强磁场条件下,靶材的利用率可能会降低。这是因为较强的磁场...
为
什么溅射
材料时需要等pvd
靶材
冷却呢?
答:
防止
靶材
过热:
溅射
过程中,气体离子被加速并撞击靶材,将其动量传递给靶材原子,提供足够的能量使其从晶格中逃逸。这种放热动量转移会使靶材温度升高,可能在原子水平上达到极高的温度。保持薄膜质量稳定:如果靶材表面温度过高,可能会造成蒸镀现象,使得
金属
薄膜的质量不稳定。防止靶材开裂或脱靶:如果靶材...
在一般的磁控溅射过程中,
溅射靶材
的温度会达到多高?且溅射腔室内部,靠...
答:
溅射靶材
的温度取决于能量的高低,举例:-1气压,功率5KW,偏压0。靶材表面温度为200度左右,基片温度不会高于100度~如果上升到10Kw,靶材表面温度会接近400度,基片会达到150度左右,我说的基片距离
靶材有
10厘米左右~此时热量为热辐射传热,离靶材远的地方辐射相对小,温度就低一点~
磁控
溅射
分为哪两大类?
答:
两种方式的不同应用 直流磁控
溅射
只能用于导电的
靶材
(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材),并不局限于
金属
。譬如,对于铝靶,它的表面易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累(靶中毒),严重时直流溅射无法进行。这时候,就需要射频电源,简单的说,用射频电源的时候,有一小...
漳州市合纵镀膜材料科技有限公司
靶材
的主要性能要求
答:
杂质含量的控制同样重要,靶材中固态杂质和气孔中的氧气、水气会对沉积薄膜造成污染。半导体工业使用的纯铝及铝合金靶材,对其碱
金属
和放射性元素的含量有特别严格的规定,以保证产品质量。靶材的密度是影响
溅射
效率和薄膜性能的重要指标。为了提高薄膜的质量,通常需要
靶材具有
较高的密度。密度越高,溅射速率...
白色的磷酸锂靶材和灰色的磷酸锂
靶材有什么
区别?
答:
灰色磷酸锂是比白色的磷酸锂密度要高,说白了灰色的就是失氧的,其他本质没有区别,但是根据调查收的情况,国内科研还是比较喜欢白色的,灰色的他们不喜欢,因为磷酸锂的导电性能取决于氧含量,灰色的氧含量太低了,效果一般。另外,灰色磷酸锂含碳C量在10%左右,不好。白色的磷酸锂没有含碳。
深圳市矽谷
溅射靶材
有限公司怎么样?
答:
(以上均不含法律、行政法规、国务院决定规定需前置审批和禁止的项目)^
溅射靶材
、
金属
原材料、溅射镀膜机的生产;水晶、饰品、工模具的加工。在广东省,相近经营范围的公司总注册资本为29252万元,主要资本集中在100-1000万和10-100万规模的企业中,共452家。本省范围内,当前企业的注册资本属于良好。通过...
钨
靶材
的
用途
是
什么
?那些单位或企业用的多?
答:
镀膜。
“TM”作为“目标材料”缩写在英语中的应用和重要性
答:
例如,实验中会尝试不同的靶材料如聚苯乙烯(PS)来提高束流强度,而在ICF(Inertial Confinement Fusion)中,它作为重要靶丸材料。此外,还介绍了ITO粉末、靶材及透明导电膜的生产、性质和应用,以及靶材在高纯度溅射镀层技术中的重要性。随着VLSI、光碟和FPD的发展,对超高纯
金属溅射靶材
的需求量日益增长...
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