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SIC溅射靶材
什么是
溅射靶材
?
答:
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。
溅射靶材
主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏 、激光存储器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还...
SiC
陶瓷表面可以磁控
溅射
镀镍膜吗,附着力如何,能达到室温120MPa的剪切强...
答:
(4)
靶材
输入电流及
溅射
时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高...
溅射靶材
的介绍
答:
溅射靶材
的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜...
半导体的上游原材料有哪些
答:
化合物主要指砷化镓(gaas)、氮化镓(gan)和碳化硅(
sic
)等。最近热炒的氮化镓也在其中,所以并不新鲜。上市公司:三安光电、文泰科技、海特高新、士兰威、福满电子、耐威科技、海陆重工、云南锗业、赣兆光电等。制造材料。制造材料可分为六大类:电子专用气体、
溅射靶材
、光刻胶、抛光材料、掩膜、湿式电子化...
SiC
陶瓷表面可以磁控
溅射
镀膜吗,附着力如何,能达到室温120MPa的剪切强...
答:
滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。磁控
溅射
镀膜设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,
靶材
利用率达到70~80%以上,基体镀膜均匀,色泽一致。b平面磁控溅射镀膜机;c中频磁控溅射镀膜机;
半导体分类
答:
靶材: 江丰电子、隆华 科技 、有研新材、阿石创(
溅射靶材
)、江丰电子(高纯溅射靶材)CMP抛光材料: 安集 科技 、鼎龙股份 高纯试剂: 上海新阳、晶瑞股份、【第三代半导体】氮化镓GaN :富满电子、奥海 科技 (氮化镓充电器)、聚灿光电(GaN基高亮度LED外延片、芯片)、闻泰 科技 ...
中国芯片产业链究竟发展的怎么样?
答:
南大光电研发的ArF光刻胶是目前仅次于EUV光刻胶以外难度最高,制程最先进的光刻胶,也是集成电路22nm、14nm乃至10nm制程的关键。电子特气国产化也在加速,衬底(硅片、砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)和碳化硅(
SiC
)等、光罩(光掩模板)、
溅射靶材
、湿电子化学品、化学机械抛光(CMP)材料(抛光液、抛光...
气体蒸发法纳米材料的制备工艺条件
答:
6 3.
溅射
法 此方法的原理如图, 用两块 金属板分别作为阳极相阴 极,阴极为蒸发用的材料, 在两电极间充入Ar气(40~ 250Pa),两电极间施加的电 压范围为0.3~1.5kv。由于 两极间的辉光放电使Ar离 子形成,在电场的作用下 Ar离子冲击阴极
靶材
表面, 使靶材从其表面蒸发出来 形成超微粒子.并在附...
半导体的未来发展
答:
中国大陆是2019年各地区中唯一增长的半导体材料市场,销售规模位居第三。二、2019年封装材料销售额下滑增速超过晶圆制造材料 分产品来看,2019年全球晶圆制造材料销售额328亿美元,略微下降0.4%;其中工艺化学品、
溅射靶材
和CMP同比下降超过2%。2019年封装材料销售额192亿美元,同比下滑2.3%。三、2019年一半...
半导体的现状及其发展趋势
答:
分产品来看,2019年全球晶圆制造材料销售额328亿美元,略微下降0.4%;其中工艺化学品、
溅射靶材
和CMP同比下降超过2%。2019年封装材料销售额192亿美元,同比下滑2.3%。 三、2019年一半以上半导体上市公司净利增长 国内上市公司中,也有不少半导体行业上市公司,不过从规模来看比较小,但是在新一轮产能扩展期,将带来新的发展机...
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