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测试玻璃折射率的沉浸液
沉浸
式光刻技术沉浸式光刻的难点与挑战
答:
这些高
折射率
材料的选择和优化,旨在提高光的聚焦能力,从而提升光刻分辨率和晶体管的尺寸精度。在AMD采用的45nm工艺中,
沉浸
式光刻技术被广泛应用。通过将整个光刻过程置于光学折射率较大的透明液体中,提高了分辨率,实现了晶圆上的更精确刻录。这种技术使得AMD能够在不增加光刻设备分辨率的情况下,通过液体...
沉浸
式光刻技术简介及详细资料
答:
1、水随着光刻机在晶圆表面做步进-扫描运动,没有泄露;2、水中没有气泡和颗粒。在193nm波长下,水的
折射率
是1.44,可以实现NA大于1。图3.15是浸没式光刻机曝光头的示意图。去离子水经过进一步去杂质、去气泡(degassing)、恒温之后流入曝光头,填充在晶圆和透镜之间,然后流出光刻机。除了表面张力,...
45nm工艺流程
答:
另外不得不提的便是
沉浸
式光刻技术,其是AMD在45nm的Phenom Ⅱ处理器生产中最新应用的技术之一,其区别于过去干式光刻最大的特点就是整个光刻的过程并不是发生在空气中,而是沉浸在一种光学
折射率
较大的透明液体中,从而让其在晶圆上更好的刻录晶体管。在AMD的45nm Phenom II的生产中,整个晶圆是浸泡...
什么是
沉浸
式光刻机?
答:
在传统的光刻技术中,其镜头与光刻胶之间的介质是空气,而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上,浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率,其缩短的倍率即为液体介质的
折射率
。例如,在193nm光刻机中,在光源与硅片(光刻胶)之间加入水作为介质,而水的折射率约为1.4,则波...
牛顿小时候的故事
答:
牛顿由于发现了白光的组成,认为折射望远镜透镜的色散现象是无法消除的(后来有人用具有不同
折射率的玻璃
组成的透镜消除了色散现象),就设计和制造了反射望远镜。 牛顿不但擅长数学计算,而且能够自己动手制造各种试验设备并且作精细实验。为了制造望远镜,他自己设计了研磨抛光机,实验各种研磨材料。公元1668年,他制成了第一架...
负性光刻胶的曝光能量
检测
方法
答:
负性光刻胶的曝光能量
检测
方法的步骤如下:1、
沉浸
式光刻,将负性黑色光刻胶喷洒在基材表面,加速旋转托盘,在该速度下保持旋转1分钟。2、软烘烤,将涂覆光刻胶的基材在110℃恒温下,烘烤至不黏手。3、滴加高
折射率
液体,在经软烘烤的光刻胶表面滴加折射率大于1.3的液体,在高折射率液体夹层上,...
CPU的技术含量很高吗?
答:
然后在这些圆片上开始刻。刻从刚开始的雕刻到现在的光雕,根据光的波长来刻。然后现在主要是
沉浸
式光雕工艺,意思就是将这些东西放在液体里面,因为有些液体根据
折射率的
不同可以刻出更加细致的东西,而且避免了空气中的杂质。每刻一层电路,就铺一层硅什么的,最后都弄好 就变成晶圆了。晶圆经过切割 ...
CPU的技术含量高吗
答:
技术高但是不是没办法制造,但是专利在人家手里,国内也可以造,早就造出来过成本会很高,不适合民用,现在听说华为已经饶开专利,现在美国这么打压华为,可也想想,对美国的冲击有多大了,华为要是制定标准提前出来国产标准,拿美国所有信息行业都要,围着这个标准转,就像是微软一样,(电脑系统更容易造,...
牛顿介绍
视频时间 00:52
重新审视EUV光刻技术
答:
其中n是透镜和物体之间介质的
折射率
,α是物镜光锥的半角。对于光刻,用数值孔径(NA)代替n sin(α)并在公式中加入因子k(因为光刻分辨率可以用照明技巧强烈调整),最小可行结构或临界尺寸(CD)是: CD = kλ / NA(2) 该公式控制着所有光刻成像过程,这使得波长成为如此重要的参数变得明显。因此,工程师们一直在寻找...
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